Structure ya Machine ya Gravure na Plasma

Bisaleli ya ICP ezali mingi mingi na biteni minei : chambre pré-ya vide, chambre ya gravure, système ya fourniture ya gaz na système ya vide.

(1) Chambre ya vide liboso ya-

Mosala ya chambre avant-vide ezali ya kosala que chambre ya gravure ezala na niveau ya vide oyo etiamaki, ezala affecté te na environnement ya libanda (lokola poussière, vapeur ya mayi), pe e isoler ba gaz ya likama na chambre ya propre. Ezali na couvercle, manipulateur, mécanisme ya transmission, porte ya isolement, etc.

(2) Chambre ya kosala gravure

Chambre ya gravure ezali structure ya moboko ya équipement ya gravure ya ICP. Ezali na impact direct na vitesse ya gravure, verticalité ya gravure, mpe rugosité. Ba composantes ya minene ya chambre ya gravure ezali : électrode ya likolo, unité ya fréquence ya radio ICP, unité ya fréquence ya radio RF, système ya électrode inférieur, système ya contrôle ya température, etc.

(3) Système ya kopesa gaz

Système ya alimentation ya gaz ezali ya ko livrer ba gaz ya gravure ndenge na ndenge na chambre ya gravure, pe ko contrôler na bosikisiki débit pe débit ya gaz na contrôleur ya pression (PC) pe contrôleur ya débit de masse (MFC). Système ya bopesi gaz ezali na molangi ya source ya gaz, pipeline ya bopesi gaz, système ya contrôle, unité ya mélange, etc.

(4) Système ya vide
Ezali na ba systèmes mibale ya vide, moko mpo na chambre avant-vide mpe mosusu mpo na chambre ya gravure. Chambre ya vide avant-elongolami na pompe mécanique. Kaka tango niveau ya vide na chambre avant-vide ekomi na valeur oyo etiamaki nde porte ya isolement ekoki kofungwama pona ko transferer wafer. Vide oyo ezali na kati ya chambre ya gravure epesami na pompe mécanique mpe na pompe moléculaire. Ba gaz oyo ebimaka na réaction na chambre ya gravure e évacuer pe na système ya vide.